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SU-8 奈米柱陣列試片疏水性处理后接触角变化情况􀏡􁁁􁞚
作者:佚名    转贴自:本站原创    点击数:879    更新时间:2006-9-18    资讯录入:admin

將上述的SU-8 奈米柱陣列試片進行疏水性處理後,進行液珠接觸角量測實驗,可發現一些有趣的現象。實驗結果如圖四所示,一經由疏水性處理的平坦表面,其液珠與表面的原始接觸角經由量測可得到約為115°。若於表面佈滿一層薄薄的奈米柱,可進一步將液珠與表面的接觸角提升到接近160°,而成為一超疏水表面。超疏水表面除可降低液珠的表面能(surface energy),使得容易對液珠進行操控外,更可用來作為自潔淨(self-clean) 表面,具有避免液體及灰層沾染等功能。具体如下图所示.
 
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